刘明

《真空科学与技术学报》主编

中国真空学会副理事长
中国科学院微电子研究所研究员

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真空技术与理论

  • SIMION中多物理场模拟方法的研究与对比

    郭冰清;孙运;褚美娟;杜康;蒋学慧;汪曣;

    在质谱仪器内部存在着许多非真空环境,如质子转移反应质谱(PTR-MS)的漂移管区域。离子在非真空环境中的运动十分复杂,受电场及气流、压强等多种环境因素的影响。在离子光学仿真软件SIMION中,常采用硬球碰撞模或统计扩散模型对离子在非真空环境中的迁移过程进行仿真。本文通过改变仿真参数,对这两种模型各自的特点和适用条件进行了分析对比。并结合实验对仿真结果加以验证。结果表明,两种模型的适用条件存在显著差异,根据实际情况合理选择仿真模型,对质谱仪器的设计优化有着重要意义。

    2017年12期 v.37 1129-1134页 [查看摘要][在线阅读][下载 1631K]
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  • 气体介质、压强及校准方法对真空漏孔漏率的影响

    王维;钟博扬;叶小球;李芳芳;陈长安;高涛;

    真空标准漏孔作为标定检漏仪或被测量漏率的参考标准,在核工业、航天航空等领域得到了广泛应用。本文利用氦质谱检漏仪和定容法对标准漏孔(铭牌漏率:2.3×10-6Pa·m3/s,He,23℃)进行校准,以为快速地定量研究聚变材料中氘(D2)或氦(He)行为提供有用的参考。研究结果表明,漏孔漏率随入口端气体压强的增大而增大,并与漏孔两端气体介质压强的平方差呈线性递增关系。同一入口压强下,D2的漏率高于He,且漏率之间的差异随压强增加而变大。同一条件下,定容法和氦质谱检漏仪测得漏孔中示漏气体He的漏率值基本相等,但示漏气体为D2时,氦质谱检漏仪测得的漏率值高于定容法。研究还给出了氦质谱检漏仪测量示漏气体D2时漏孔漏率的修正关系式。

    2017年12期 v.37 1135-1140页 [查看摘要][在线阅读][下载 996K]
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  • 模拟刚性正压漏孔的泄漏率与压力关系研究

    刘吉;党杰;陈镇;杨明德;

    为满足大型氦气工程试验回路(Helium Test Loop,HTL)工作状态下泄漏率的精确定量要求,进行了模拟刚性高压标准漏孔的研制工作。采用石英玻璃钻孔法制作得到正压漏孔2支,测定了漏孔在入口压力为0.7~7.0 MPa(表压),出口为大气压(绝对压力100 k Pa)和真空(绝对压力<10 Pa)两种情况下的泄漏率,并且采用圆导管模型模拟了2支漏孔在不同压力范围下泄漏率与压力之间的关系,发现He气通过两支漏孔的泄漏为粘滞-分子流状态,漏率与压差之间的关系可以采用二次多项式进行拟合,拟合相关性系数良好。研究结论很好的揭示了刚性漏孔在较高压力下的泄漏状态,并且为正压检漏在相对较高压力范围内(0~7 MPa)的应用提供了良好的校准工具。

    2017年12期 v.37 1141-1145页 [查看摘要][在线阅读][下载 299K]
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  • 稻谷真空干燥动力学实验研究

    马培勇;张静;邢献军;邢勇强;陈长琦;

    以干基含水率为28.02%的稻谷为研究对象,研究了相对压力(-20、-50和-80 k Pa)和温度(40、50、60和70℃)对稻谷真空干燥特性的影响。结果表明,相对压力对稻谷干燥的影响不大,温度对稻谷干燥的影响较明显。温度越高,达到目标含水率所需的时间越短,干燥速率和峰值干燥速率越大。采用9种不同的等温干燥模型对不同干燥温度下的实验结果进行拟合分析,模型拟合的相关系数R2均高于0.9860,拟合效果均较好,其中Midilli and Kucuk模型的R2均高于0.9990,拟合效果最好。稻谷的有效水分扩散系数随温度的升高而增大,干燥活化能为37.43 k J/mol。

    2017年12期 v.37 1146-1152页 [查看摘要][在线阅读][下载 1020K]
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功能薄膜

  • 原子层沉积技术在纳米光子波导中的应用

    邵淑英;易葵;朱美萍;范正修;邵建达;

    原子层沉积(ALD)是一种独特的薄膜沉积方法,能够实现完美的台阶复形和大面积均匀沉积,为薄膜成分和厚度提供原子级控制。本文将ALD的优点与纳米光子学联系起来,总结了ALD膜层在几种硅波导新结构中的性能优化作用,综述了近年来利用ALD制备纳米光子波导器件的一些研究成果。

    2017年12期 v.37 1153-1159页 [查看摘要][在线阅读][下载 1880K]
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  • 奥斯瓦尔德熟化机制对Ag/TiO2复合薄膜中银离子释放速率的影响

    熊剑;何禄英;

    采用反应磁控共溅射法制备Ag/TiO_2复合薄膜。利用扫描电镜、透射电镜、X射线光电能谱和原子吸收光谱分析比较了致密/多孔两种Ag/TiO_2复合薄膜表面形貌和银离子释放速率。结果表明:形貌致密的Ag/TiO_2复合薄膜表面展现出明显的Ag纳米颗粒的奥斯瓦尔德熟化过程,银离子释放速率极为缓慢(7天后有6.8%的银离子释放);而多孔复合薄膜表面没有呈现出明显的奥斯瓦尔德熟化过程,银离子释放速率较为迅速(一周内有38%的银离子释放)。

    2017年12期 v.37 1160-1165页 [查看摘要][在线阅读][下载 2850K]
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  • L10-FePt/Fe交换耦合多层梯度膜的微磁学模拟

    马建春;张军;

    以微磁学理论为基础,详细研究了磁晶各向异性梯度变化对L10-Fe Pt/Fe交换耦合多层梯度膜磁性能的影响。结果显示,随着梯度跨度增大,矫顽力和剩余磁化强度逐渐减小。适当低的矫顽力使磁头容易记录信息,但大幅度降低的剩余磁化强度不利于磁头读取信息。通过在L10-Fe Pt/Fe交换耦合多层梯度膜上覆盖一层2.5nm的L10-Fe Pt硬磁层后,矫顽力基本不变,但剩余磁化强度大幅度提高,解决了磁头读写信息的矛盾。此结论对实验制备交换耦合类梯度介质具有一定的指导作用。

    2017年12期 v.37 1166-1169页 [查看摘要][在线阅读][下载 583K]
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  • 不同温度对原子层沉积掺铝氧化锌薄膜性能的影响

    张增光;汤洋;

    采用热原子层沉积(ALD)方法,在固定氧化锌与氧化铝沉积比例的情况下,研究了不同温度下在玻璃衬底上沉积的掺铝氧化锌薄膜性能的变化,特别是"ALD窗口"温度的影响。通过计算薄膜沉积速率,得到了薄膜沉积的"ALD窗口"温度范围为225~275℃,相应的沉积速率为0.214 nm/cycle。分析样品的表面形貌后发现,虽然反应的温度有所不同,但薄膜的微观结构均为密集堆积的纺缍体,它们的尺寸受到温度、晶体结构等因素的影响。结构分析表明,在"ALD窗口"温度范围内,所有沉积得到的样品均为(100)择优取向,并且结晶质量、晶粒尺寸以及(002)峰的相对强度均随着温度升高而增大。薄膜的光学透过率以及光学带隙没有随温度变化而表现出明显的变化,分别在80%(350~770 nm)和3.90 e V左右。薄膜的电导率和光学质量在"ALD窗口"内随温度增加而增长,直到300℃时达到最佳。

    2017年12期 v.37 1170-1176页 [查看摘要][在线阅读][下载 1216K]
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等离子体技术

  • 注氧位置对电弧加热等离子体发生器性能的影响

    赵宇辉;王一白;代晓松;王硕;

    等离子体发生器被广泛应用于再入飞行器热防护地面试验中,而对等离子体发生器的数值仿真可以预估发生器性能,对发生器的设计工作起到一定作用。因此本文通过耦合磁流体力学控制方程和N-S方程,对自主设计的氮氧等离子体发生器进行了数值仿真。仿真获得了发生器内部的温度场与速度场,以及氮氧的组分分布以及出口气流部分气动热力学参数,并讨论了注氧位置对发生器性能的影响。仿真结果表明,在发生器通道内,电弧的热能转化为工质内能,工质通过收缩-扩张型喷管以后将部分内能转化为动能,达到超音速,同时注氧位置前置可以使射流混合更充分,获得更好的射流性质。

    2017年12期 v.37 1177-1182页 [查看摘要][在线阅读][下载 1201K]
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  • 基于数值模拟的方式研究氩气-氢气等离子体射流物理特性

    张勇;袁建辉;谭礼明;陈晓晓;

    对氩气-氢气等离子体射流采用基于流体动力学的基本方程进行数值模拟,探讨不同氢气含量对氩气-氢气等离子体射流的温度场与密度的影响,研究了氩气-氢气等离子体射流的特点并分析了氩气-氢气等离子体射流温度场变化的原因。结果表明:氢气含量的增加提高了等离子体射流的温度,降低了等离子体射流的密度;氩气-氢气等离子体射流在喷枪出口位置发生了流体的卷吸作用和射流的压缩效应;氩气-氢气等离子体射流主要以热扩散的形式进行扩散。

    2017年12期 v.37 1183-1189页 [查看摘要][在线阅读][下载 1250K]
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  • 磁流体径向本征函数的演化规律

    代玉杰;王学慧;

    应用傅里叶变换,将线性化的理想磁流体方程组转化为一个关于径向本征函数的二阶常微分方程。通过求解此方程,数值模拟了角向模数m=2时,圆柱磁流体径向本征函数在不同热压强时随波数和增长率的演化规律。数值模拟结果表明径向本征函数对波长的变化比较敏感,在短波模式有一定波动,长波时不受增长率的影响。此结果有利于加深对高角向模数不稳定性的理解,同时也验证了半解析方法解决磁流体问题的有效性和简洁性。

    2017年12期 v.37 1190-1193页 [查看摘要][在线阅读][下载 1195K]
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纳米技术

  • 磁控溅射法制备柔性纺织面料基纳米薄膜的研究与进展

    黄美林;鲁圣国;杜文琴;蔡珍;任永聪;

    磁控溅射工艺技术是一种重要的镀膜技术,广泛应用于薄膜材料制备和材料的表面处理,应用于柔性纺织材料的表面镀膜也越来越广。本文主要介绍磁控溅射法在柔性纺织面料上制备纳米薄膜的研究和发展情况,包括镀制金属、合金、化合物或陶瓷、高分子材料等单层或多层薄膜,用以开发功能性纺织品的研究情况。介绍的镀膜包括银膜、铜膜、铝膜、钛膜及其金属氧化膜、聚四氟乙烯膜等。

    2017年12期 v.37 1194-1200页 [查看摘要][在线阅读][下载 141K]
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  • CuxCo3-xO4纳米颗粒的制备及其表面形貌表征

    刘震;

    铜钴氧化物作为锂离子电池阴极材料具有高容量以及电化学活性,但在锂离子的插入和脱嵌过程中会产生体积膨胀,导致容量急剧衰减,采用纳米结构的功能材料被认为是一种解决上述问题的有效方法。本文采用尿素辅助水热法制备了一种絮状Cu_xCo_(3-x)O_4纳米颗粒,并利用X射线衍射和扫描电镜表征了溶液浓度、反应时间、反应温度对材料表面形貌的影响。研究发现:当溶液浓度相应增大时,水热反应产物由有序的管状结构向为无规则结构转变;在100℃时,合成产物为纳米片以及由纳米颗粒组成的长度为200 nm左右的透明纳米管状结构,随着温度的升高,纳米管的长度逐渐增加;反应时间的增加,在F-离子的作用下,Cu_xCo_(3-x)O_4表面形貌由片状结构、管状结构逐渐向纳米颗粒转变,在140℃/24 h时生成产物为泡沫状Cu_xCo_(3-x)O_4纳米颗粒。

    2017年12期 v.37 1201-1205页 [查看摘要][在线阅读][下载 1334K]
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结构薄膜

  • 磁过滤真空阴极电弧技术弧电流对四面体非晶碳薄膜性能的影响

    于振华;姜康;

    研究了磁过滤阴极真空电弧技术中不同弧电流(20~100 A),制备的四面体非晶碳薄膜性能的影响。通过对薄膜厚度、薄膜硬度、表面形貌以及sp3键含量随弧电流的变化结果进行了测试。结果表明,当弧电流从20增大至100 A,表征薄膜sp杂化碳含量的ID/IG从0.212增加到1.18,显示制备薄膜的sp3键含量逐渐减少,同时sp2键在逐渐增加。随着弧电流值上升,薄膜硬度增加,表明其值与弧电流值呈正相关性,高的弧电流使通过磁过滤器的大颗粒等离子体数增加,从而薄膜表面形貌易于沉积大颗粒,导致薄膜表面质量下降。因此,选择合适的弧电流值可优化Ta-C薄膜制备工艺,本文研究内容为工业应用中通过弧电流调整优化膜层综合性能提供参考。

    2017年12期 v.37 1206-1211页 [查看摘要][在线阅读][下载 976K]
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电子器件

  • 金属掺杂对Y2O3-Gd2O3-HfO2浸渍W基阴极次级电子发射的影响

    蒋鹏宇;王小霞;罗积润;赵青兰;李云;

    Y_2O_3-Gd_2O_3-HfO_2浸渍W基直热式阴极具有热发射电流密度大、工作温度低的特点,是一种用于大功率连续波磁控管的直热式阴极。本文主要研究了金属Re、W的掺杂对Y_2O_3-Gd_2O_3-HfO_2浸渍W基直热式阴极次级电子发射系数的影响。通过测试表明Y_2O_3-Gd_2O_3-HfO_2浸渍W基直热式阴极的次级电子发射系数(δm)为2.64,活性物质分别掺杂20%(质量比)和30%的Re粉和W粉后,阴极的最大次级电子发射系数(δm)都得到了提升,而且掺杂W粉的效果要优于掺杂Re粉。

    2017年12期 v.37 1212-1216页 [查看摘要][在线阅读][下载 734K]
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工艺设备

  • 离子镀中弯管磁过滤器的效率和颗粒去除效果的研究

    杨木;于振华;张俊;董中林;张心凤;干蜀毅;

    真空多弧离子镀沉积四面体非晶碳薄膜(ta-C)过程中,利用90°磁过滤器弯管去除大颗粒。本文探究了磁场强度、弯管偏压、弧电流和挡板孔径对弯管中离子传输效率(离子流)的影响,同时研究了薄膜表面颗粒去除情况。实验结果表明,弯管中离子流随磁场强度增强而增大,但增大磁场强度会导致颗粒数量增多;在中低磁场强度下,弯管偏压约为+15 V时可获得较高的离子传输效率,相比于不施加偏压提高了近70%;减小挡板孔径可使沉积速率降低,但可以显著改善大颗粒过滤效果;改变弧电流对弧源离子产生率和过滤器传输效率几乎没有影响,减小弧电流能够降低大颗粒的发射数量。本文研究内容为工业应用中采用磁过滤弯管减少薄膜大颗粒提供参考。

    2017年12期 v.37 1217-1223页 [查看摘要][在线阅读][下载 1420K]
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  • 《真空科学与技术学报》征稿说明

    <正>《真空科学与技术学报》由中国真空学会主办,是中国科学技术协会审定的国家级自然科学技术刊物,月刊,国内外公开发行。本刊论文被CA、SA和INSPEC等国际著名检索系统收录。《真空科学与技术学报》刊载的论文的内容主要涉及如下学科:真空科学与技术、薄膜物理与工艺、表面及界面物理、应用表面科学、物理电子学、电子材料与处理、纳米科学与技术、电真空技术、核真空技术及真空冶金等。本刊欢迎上述学科领域内的科研论文、研究报告、工艺研究、动态综述、工业技术等稿件,对于开创性的发明、发现等新成果,将优先发表。(一)稿件要求1.文稿务必立论明确,论证严谨,数据可靠,文字精练。特约稿、综述论文一般8 000字以内,学术论文6 000字以内,技术交流4 000字以

    2017年12期 v.37 1224页 [查看摘要][在线阅读][下载 1148K]
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  • 《真空科学与技术学报》第37卷总目次

    <正>~~

    2017年12期 v.37 1225-1239页 [查看摘要][在线阅读][下载 10831K]
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