2000 04
直流反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化性研究
基金项目(Foundation):
上海市教育委员会重点学科资助项目! (B990 10 9)
邮箱(Email):
DOI:
10.13922/j.cnki.cjovst.2000.04.007
中文作者单位:
复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433,复旦大学材料科学系!上海200433
摘要(Abstract):
在磁控溅射器中用钛板作阴极 ,采用直流反应磁控溅射在玻璃基板上制备二氧化钛薄膜 ,溅射气体为氧、氩混合气体 ,O2 与Ar比例为 1∶2 ,溅射总气压范围为 0 5～ 6 65Pa ,溅射时基板温度范围为 1 0 0～ 40 0℃ ,薄膜厚度范围为 1 4 0～ 1 1 0 0nm。XRD结果显示薄膜具有纯锐钛矿结构或锐钛矿和金红石的混合结构。在高的基板温度和适宜的溅射总气压下制备的薄膜以及厚度较厚的薄膜在紫外光照射后 ,有较好的光催化性
关键词(KeyWords):
TiO_2薄膜;;直流反应磁控溅射;;光催化性;;紫外光照射
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参考文献
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基本信息:
DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2000.04.007
中图分类号:O484
引用信息:
[1]董昊,张永熙,杨锡良,沈杰陈,华仙,蒋益明,顾元壮,章壮健.直流反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化性研究[J].真空科学与技术,2000(04).DOI:10.13922/j.cnki.cjovst.2000.04.007.
基金信息:
上海市教育委员会重点学科资助项目! (B990 10 9)